1月18日，微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領先供應商EV集團（EVG）現推出EVG?7300自動化SmartNIL?納米壓印與晶圓級光學系統。EVG7300是EV集團最先進的解決方案，在單個平臺中結合了多種紫外線工藝技術，包括納米壓印光刻（NIL）、鏡片成型和鏡片堆疊（紫外線鍵合）。這部面向行業的多功能系統旨在滿足多種新興應用的研發和生產需求，這些新興應用大多涉及微米和納米圖案成型以及功能層堆疊技術，包括晶圓級光學系統（WLO）、光學傳感器和投影儀、汽車照明、增強現實耳機波導、生物醫學設備、超透鏡和超表面，以及光電子學應用。EVG7300支持最大300毫米晶圓尺寸，具有高精度調準、先進工藝控制和高吞吐量等優勢，可滿足多種自由曲面和高精度納米和微光學元件與器件的大批量制造需求。EV集團企業技術總監托馬斯·格林斯納（Thomas Glinsner）表示：“EV集團深耕納米壓印技術領域二十余載，我們將繼續在這一重要領域開拓創新，開發出新型解決方案，滿足不斷變化的客戶需求。EVG7300是EV集團納米壓印解決方案系列的最新成員，將我們的SmartNIL全場壓印技術與透鏡成型和透鏡堆疊技術結合于頂級系統，擁有市場上最精確的調準和工藝參數控制功能，為我們的客戶帶來了前所未有的靈活性，足以滿足行業研究和生產需求。”EVG7300系統既可作為獨立工具，也可用作EV集團HERCULES? NIL全面集成型UV-NIL跟蹤解決方案中的集成模塊。UV-NIL解決方案可添加額外的預處理步驟，例如清潔流程、抗蝕劑涂層、烘焙或后處理等，以滿足特定工藝的優化需求。EVG7300系統結合了調準平臺改進、高精度光學、多點間隙控制、非接觸式間隙測量和多點力控制等技術，達到了業內領先的調準精度（最低可至300納米）。EVG7300是一種高度靈活的平臺，提供三種工藝模式（透鏡成型、透鏡堆疊和SmartNIL納米壓印），支持從150毫米到300毫米晶圓的基板尺寸。該高效平臺能夠快速加載印戳和晶圓、快速調準光學器件、提供高功率固化功能，且工具尺寸小巧，能夠充分滿足行業對新型晶圓級光學系統（WLO）產品的制造需求。原文始發于微信公眾號（艾邦半導體網）：EVG推出自動化納米壓印與晶圓級光學系統
